*
*


CAPTCHA Image   Reload Image
X

Разработка элипсометрического метода контроля оптических покрытий

дипломные работы, медицина

Объем работы: 46 стр.

Год сдачи: 2010

Стоимость: 3200 руб.

Просмотров: 551

 

Не подходит работа?
Узнай цену на написание.

Оглавление
Введение
Заказать работу
Содержание

ВВЕДЕНИЕ 3
Глава 1. Свойства различных типов оптических покрытий 6
1.1 Оптические свойства однослойных систем 11
1.2 Двухслойные диэлектрические системы. 20
1.3 Трёхслойные системы 24
1.4 Фильтрующие покрытия. 26
Глава 2. Эллипсометрия как основной метод исследования оптических покрытий 29
2.1 Развитие эллипсометрии 29
2.2 Основные понятия эллипсометрии 31
2.3 Принцип работы эллипсометра 33
2.4 Эллипсометрические измерения 36
ЛИТЕРАТУРА: 44

ВВЕДЕНИЕ

Современные тенденции в развитии тонкопленочных технологий и полупроводниковой индустрии неизбежно ведут к уменьшению характерных размеров создаваемых структур. Это предъявляет повышенные требования к аналитическим средствам контроля параметров слоистых структур в процессе их производства: состава слоев, кристаллического совершенства материалов и в первую очередь их геометрических характеристик толщин слоев. Существует обширный арсенал методов такого контроля: оже-спектроскопия, дифракция медленных и быстрых электронов, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, атомносиловая микроскопия и другие. Особое место в этом ряду занимает эллипсометрия. Это оптический метод, основанный на анализе состояния поляризации отраженного от образца света. Он спользуется для исследования физико-химических свойств поверхности, ее морфологии, для измерения толщин многослойных структур и характеризации оптических свойств тонких пленок. Ряд существенных достоинств этого метода делают его крайне привлекательным .
Перечислим только некоторые из них. Прежде всего это его универсальность. Оптические константы (показатели преломления n и поглощения k), которые, в конечном счете, и определяют результат эллипсометрических измерений, есть фундаментальные характеристики вещества. Любое внешнее воздействие приводит, как правило, к изменению оптических свойств измеряемого объекта. Поэтому с помощью метода эллипсометрии можно характеризовать широкий спектр физических параметров: состав композиционных соединений, плотность инородных нановключений, структурное совершенство материала, качество границ раздела; регистрировать изменения, обусловленные изменением температуры или воздействием электрических, магнитных, механических полей и многое другое. При этом, в отличие, например, от дифракции электронов, эллипсометрия одинаково хорошо применима как к кристаллическим веществам, так и к аморфным. Можно еще добавить, что эллипсометрические измерения имеют высокую чувствительность: к...

После офорления заказа Вам будут доступны содержание, введение, список литературы*
*- если автор дал согласие и выложил это описание.

Работу высылаем в течении суток после поступления денег на счет
ФИО*


E-mail для получения работы *


Телефон


ICQ


Дополнительная информация, вопросы, комментарии:



CAPTCHA Image
Сусловиямиприбретения работы согласен.

 
Добавить страницу в закладки
Отправить ссылку другу